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반도체

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반도체 공정_산화막 공정 기판에 산화막(SiO2)을 만드는 방법에는 ①Oxidation 과 ②Deposition 방법이 있습니다. 그리고 이번엔 포스팅 주제인 Oxidation 에 대해 중점적으로 다뤄볼게요 *insulator로 SiO2를 사용하는데 이는 SiO2가 GeO2보다 insulator로서 더 좋은 재료이기 때문입니다 ​ ​ ​ ​ 그럼 기판을 든든하게 보호하는 산화막(SiO2)에는 무슨 특성이 있을까요? ① 쉽게 성장하고 증착됩니다(easily grown or deposited) ② 잘 붙습니다(adhere well) ③ 외부물질을 확산으로 잘 차단합니다(diffusion barrier) ④ 대부분의 화학물질로부터 특성을 잘 유지합니다(resistant to chemicals) ⑤ 'selective'하게 etchin..

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